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[00223206]一种铜铟镓硒(硫)薄膜的硒化硫化装置及方法

交易价格: 面议

所属行业: 化工生产

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201510508328.9

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 中山大学

进入空间

所在地:广东广州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种于铜铟镓硒(硫)薄膜的硒化硫化装置,包括石英管、设置在石英管内的反应单元、设置在所述石英管外的加热结构、用于密封所述石英管的管口密封部;所述石英管上设置有与真空泵组连接的连接组件;所述反应单元包括坩埚,所述坩埚上设置有容纳腔、用于密封所述坩埚的密封结构;所述坩埚包括底壁和与底壁形成上方设有开口的容纳腔的侧壁;所述坩埚上设置有用于将所述容纳腔分隔成若干反应腔的分隔壁,所述分隔壁上设置有若干连接相邻反应腔的连通槽,所述连通槽设置在所述底壁的上方。本发明结构简单,操作方便,安全性高,密封性好,蒸汽压稳定,反应均匀,保证了处理后薄膜表面的粗糙度,提升产品质量。
摘要:本发明公开了一种于铜铟镓硒(硫)薄膜的硒化硫化装置,包括石英管、设置在石英管内的反应单元、设置在所述石英管外的加热结构、用于密封所述石英管的管口密封部;所述石英管上设置有与真空泵组连接的连接组件;所述反应单元包括坩埚,所述坩埚上设置有容纳腔、用于密封所述坩埚的密封结构;所述坩埚包括底壁和与底壁形成上方设有开口的容纳腔的侧壁;所述坩埚上设置有用于将所述容纳腔分隔成若干反应腔的分隔壁,所述分隔壁上设置有若干连接相邻反应腔的连通槽,所述连通槽设置在所述底壁的上方。本发明结构简单,操作方便,安全性高,密封性好,蒸汽压稳定,反应均匀,保证了处理后薄膜表面的粗糙度,提升产品质量。

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